江苏德纳化学股份有限公司
基本信息
详细参数
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材料企业
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| 产品分类 | 二级分类 | 产品名称 | 图片介绍 | 生产厂家 | 产品特征 |
| 工艺化学品 | 功能化学品 | 丙二醇单甲醚(PM) |
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江苏德纳化学股份有限公司 |
可用于半导体设备清洗，配制EBR溶剂 各金属离子小于5ppb 含量大于99.9% 颗粒度可控 无色透明溶剂 危险化学品 |
| 工艺化学品 | 功能化学品 | 丙二醇甲醚醋酸酯 |
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江苏德纳化学股份有限公司 |
可用于半导体设备清洗，配制EBR溶 剂，光刻胶溶剂，光刻胶减薄剂。 各金属离子小于5ppb 含量大于99.9% 颗粒度可控 无色透明溶剂 危险化学品 |
| 工艺化学品 | 功能化学品 | 稀释剂DN73 |
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江苏德纳化学股份有限公司 |
可用于光刻胶涂覆前润湿，涂覆后清边等，是光刻制程中必不可少的重要化学品，由丙二醇甲醚及其醋酸酯混配而成 各金属离子小于1ppb 颗粒度可控 无色透明溶剂 危险化学品 |
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