全球光刻胶研制专利主要分布在日本、美国、韩国、中国、欧洲和台湾六大地区，且各地区光刻胶专利量所占比例见上图所示。从图中可看出六大地区光刻胶专利拥有量差别很大，最多的为日本，其次为美国，然后是韩国、中国、欧洲和台湾。各地区光刻胶专利申请趋势、法律状态、公开国状态、所属专利权人及引用情况、技术特征等差别也都很大。

　　材料和零部件联盟对全球光刻胶专利进行了系统而深入的分析，包括全球光刻胶研制专利概况;欧洲、美国、日本、韩国、中国、台湾六大地区光刻胶专利比较;不同种类光刻胶专利状况分析;全球十大光刻胶公司专利状况深度分析;中国光刻胶专利状况分析等。研究报告着重描述了全球专利申请量、专利申请趋势、专利法律状态、专利分布区域、专利权人分布、专利权人引用状况、专利核心概念、专利地图、技术领域分类表、核心专利、专利权人共申请专利情况、顶级专利权人技术定位等。

　　《全球光刻胶产业专利分析报告》共计468页，459个图表，并可附5483件光刻胶专利全文。为从事光刻胶研发、生产、投资的企事业单位在战略制定、技术定位、产品开发等方面提供了非常有价值的参考信息。如有需要请联系王艳梅010-82357517/ 18701286298