各有关单位：经集成电路材料产业技术创新联盟（简称：ICMTIA）标准委员会审查，现决定开展如下6项团体标准的制定工作：2019-10LX-ICMTIA 《集成电路用固体ArF光刻胶单体》2019-11LX-ICMTIA 《集成电路用液体ArF光刻胶单体》2019-12LX-ICMTIA 《集成电路用ArF干式光刻胶》2019-13LX-ICMTIA 《集成电路用ArF浸没式光刻胶》2019-14LX-ICMTIA 《集成电路用光刻胶检测方法》2019-15LX-ICMTIA 《集成电路用300mm硅外延片》项目归口管理单位为ICMTIA标准委员会，欢迎与本标准有关的科研机构、相关企业、使用单位等加入本标准的起草制定工作，有意参与者请与标委会办公室联系。如有单位或个人对以上标准项目存在异议，请在公告之日起10个工作日内将意见反馈至标准委员会办公室。 联系人：刘岩电 话：010-82358415邮 箱：liuyan@icmtia.com 集成电路材料产业技术创新联盟二零一九年六月十七日
根据《团体标准管理规定》及《集成电路材料产业技术创新联盟标准制定程序》要求，经联盟标准委员会审议通过，现批准发布如下2项团体标准：T/ICMTIA1-2019《集成电路材料产业技术创新联盟气体基础规范》T/ICMTIA2-2019《集成电路用过氧化氢》 以上标准于2019年4月17日发布，并于2019年10月10日开始实施，特此公告。 附1：《集成电路材料产业技术创新联盟气体基础规范》目录附2：《
