Cu阳极
基本信息
公司(检测方)
姓名
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型号
所属单位
1、纯度≥99.99%;
2、晶粒≤200um;
3、加工精度0.1mm;
4、溅射面粗糙度≤0.4um;
上一条
300mm硅片工艺用Ta环件
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200mm硅片工艺用Al及其合金靶材