300mm硅片工艺用Ta靶材
基本信息
公司(检测方)
姓名
联系方式
邮箱
型号
所属单位
1、纯度≥99.995%;
2、焊接合格率≥99%;
3、加工精度0.1mm;
4、溅射面粗糙度≤0.4um
5、晶粒≤100um
上一条
300mm硅片工艺用Al及其合金靶材
下一条
300mm硅片工艺用Ti靶材